NAVI Titaniumotel inoxidabil sinterizateste un material de metalurgie a pulberilor care poate fi fie poros, fie dens. Este fabricat din pulbere de oțel inoxidabil pre-aliat sau plasă multistrat din oțel inoxidabil prin presare și sinterizare în vid la-înaltă temperatură. În calitate de producător cu capacități complete de auto-cercetare și producție, NAVI Titanium se angajează să furnizeze soluții integrate pentru elemente de filtrare din oțel inoxidabil sinterizat de înaltă-fiabilitate pe piața globală. Din 2008, NAVI Titanium a livrat filtre din oțel inoxidabil sinterizat pentru peste 160 de proiecte industriale, acoperind circulația nămolului CMP semiconductor, livrarea de gaz de puritate ultra-și filtrarea farmaceutică în Europa, Asia de Sud-Est și America de Nord.
Soluție de NAVI Titanium
NAVI Titanium livrări personalizateotel inoxidabil sinterizatcomponente. Producem foi, discuri, flanșe și diverse piese cu forme speciale-. Fabricate din metalurgia pulberilor cu structură poroasă uniformă, aceste piese prezintă permeabilitate stabilă, temperatură ridicată și rezistență la coroziune, ideale pentru aplicații de filtrare, difuzie a gazelor, reducerea zgomotului și ventilare.
Aplicație
Oțel inoxidabil sinterizateste un material metalic poros format prin sinterizarea în vid-la temperatură înaltă a pulberii de oțel inoxidabil 304/316L într-o singură bucată. Structura sa microporoasă tri-interconectată interconectată permite personalizarea precisă a dimensiunilor porilor de la 0,1 la 100 μm. Combină avantajele unice ale metalului, inclusiv rezistența ridicată, rezistența la coroziune, rezistența la temperatură-înaltă, lipsa de scurgere a fibrelor, capacitatea de curățare și reciclare și scurgere redusă a metalelor.
Elementele de filtrare din inox sinterizat de la NAVI Titanium sunt componentele centrale de filtrare în sistemele de livrare a gazelor de ultra-puritate-semiconductori. Sunt de obicei sinterizate din oțel inoxidabil 316L de ultra-puritate ultra-și sunt supuse electrolușării și pasivării în vid pentru a asigura o suprafață fără defecte-și pentru a preveni scurgerea impurităților. Aplicațiile lor primare sunt împărțite într-un sistem în trei-etape, cuprinzând pre{-filtrare frontală,-filtrare de precizie în-etapa intermediară și filtrare-etapă finală: filtrarea-frontală interceptează particulele mari, rugina și praful din echipamentul de precizie din aval; filtrarea-la mijlocul etapei elimină cu precizie particulele de dimensiuni submicronice-pentru a menține puritatea stabilă a gazului; iar filtrarea-finală este conectată direct la camera de proces pentru a se asigura că gazul care intră în proces îndeplinește standarde de puritate ultra{--.
În plus, pentru aplicațiile semiconductoare care implică gaze speciale corozive, acest produs-mulțumită rezistenței sale excelente la halogeni, acizi și baze alcaline-poate funcționa stabil pe termen lung în medii de gaz pe bază de fluor- și clor-, fără a fi corodat de mediu și a genera impurități secundare. În comparație cu mediile de filtrare organice, cum ar fi PTFE și fibra de sticlă, rezistența ridicată la temperatură, rezistența la îmbătrânire și proprietățile non-volatile îl fac perfect potrivit pentru procesele cu gaze la temperatură înaltă, rezolvând complet provocarea industriei de contaminare a materialelor organice cauzată de descompunerea la temperatură înaltă a materialelor organice.
Ghid de achizitie
Controlul calității (QC)
Procesul de fabricație
Oțel inoxidabil sinterizat 304 vs 316 vs 316L
| Caracteristică | 304 | 316 | 316L |
| Rezistenta generala la coroziune | Bun | Superior | Superior |
| Mediu clorurat | Moderat | Mai bine | Mai bine |
| Grad-scăzut de carbon | Nu | Nu | Da |
| Considerații legate de coroziune{0}}sudură | Standard | Standard | Mai bine |
| Aplicații tipice | Industria generală | Chimic/marin | Chimic/semiconductor/puritate{0}}înaltă |
Aplicație
Suspensia CMP nu este un lichid simplu, ci un sistem de dispersie de nanoparticule extrem de complex. O pastă tipică CMP constă de obicei din nano-silice coloidal; nano-oxid de ceriu (CeO₂); nano-alumină (Al₂O₃); oxidanţi (H₂O₂, Fe(NO₃)₃, etc.); ajustatoare de pH; dispersanți; surfactanți; inhibitori; și apă ultrapură (UPW). Nano-abrazivele sunt cele care realizează cu adevărat efectul de lustruire mecanică. Dimensiunea particulelor lor este de obicei controlată între 20 și 100 nm, iar întregul sistem de suspensie trebuie să mențină o stabilitate extrem de ridicată a dispersiei. Pentru CMP avansat de cupru, marea majoritate a particulelor din suspensie trebuie concentrate în intervalul de dimensiune a particulelor de 30-60 nm. Dacă particulele încep să se aglomereze, formând particule mari de 300 nm, 500 nm sau chiar mai mari de 1 μm, aceasta va provoca daune grave suprafeței plachetei. Prin urmare, adevărata țintă a filtrelor CMP nu sunt particulele abrazive normale, ci mai degrabă particulele anormale generate continuu în timpul funcționării sistemului.
Mecanismul de formare a aglomeratelor anormale
În timpul funcționării continue într-o fabrică, nămolul CMP nu este un sistem static, ci suferă în mod constant circulație, forfecare, modificări de presiune și reacții chimice. În timpul acestui proces, nanoparticulele se pot agrega treptat din cauza forțelor van der Waals, a efectelor de ecranare electrostatică sau a modificărilor mediului chimic, formând aglomerate mari mult mai mari decât particulele originale. Factorii care influențează formarea aglomerării includ forfecare cu viteză mare-de către pompa de circulație care duce la defectarea dispersantului local; timp prelungit de depozitare a nămolului, rezultând o stabilitate coloidală scăzută; schimbările de temperatură care modifică sarcina de suprafață a particulelor; concentrație crescută de ioni metalici în suspensie comprimând stratul dublu electric și inducând agregarea particulelor; iar aerul care intră în sistemul de circulație formând microbule, favorizând formarea de punte a particulelor.
Deși aceste aglomerate sunt extrem de puține la număr, dimensiunea lor atinge de obicei sute de nanometri sau chiar câțiva micrometri. Când intră în zona de lustruire, datorită dimensiunii lor mult mai mari decât particulele abrazive normale, creează puncte de tensiune ridicată-localizate între discul de lustruit și napolitană, ducând în cele din urmă la zgârieturi la suprafață. Prin urmare, sistemele de filtrare CMP trebuie să îndepărteze continuu aceste particule anormale fără a perturba distribuția normală a dimensiunii particulelor a nano-abrazivelor.
Membranele polimerice tradiționale se bazează în principal pe structuri membranare bi-dimensionale pentru reținerea suprafeței. În timpul filtrării, particulele tind să se acumuleze pe suprafața membranei, formând un strat de turtă, ceea ce duce la o creștere rapidă a diferențelor de presiune. În schimb, NAVI titanotel inoxidabil sinterizatfolosește o structură microporoasă tri-interconectată. Canalele sale interne sunt interconectate, permițând particulelor nu numai să fie reținute pe suprafață, ci și să se distribuie treptat de-a lungul adâncimii canalului, realizând o filtrare tipică în adâncime. Această metodă de filtrare oferă câteva avantaje semnificative. În primul rând, nano-slamul curge uniform în întreaga rețea de pori, prevenind formarea de zone de curățare cu viteză mare{-localizate și reducând uzura abrazivă a mediilor filtrante. În al doilea rând, particulele aglomerate mai mari sunt reținute de preferință la orificiile de intrare ale canalului, în timp ce nanoparticulele normale pot trece fără probleme, nealterând astfel în mod semnificativ distribuția dimensiunii particulelor de suspensie.
În al treilea rând, deoarece contaminanții sunt distribuiți pe întregul strat de filtru, mai degrabă decât concentrați pe suprafață, o cantitate mai mare de contaminanți poate fi găzduită pe unitate de suprafață de filtrare, prelungind durata de viață a filtrului. În cele din urmă, acest produs are o rezistență mecanică ridicată, permițându-i să reziste la spălarea inversă online. Particulele reținute sunt îndepărtate prin flux invers de fluid, permițând reutilizarea cartuşului filtrant fără înlocuire frecventă.
Caracteristici de aplicare în cupru CMP
Cupru CMP este o etapă cheie în procesul Damaschin (interconectare damaschină). Scopul său este de a îndepărta supraplata cu cupru, menținând în același timp umplutura de cupru în șanțuri și canale. Datorită ductilității ridicate și durității scăzute a cuprului, este susceptibil la solicitări mecanice localizate în timpul CMP, ceea ce face ca starea particulelor de suspensie să fie deosebit de importantă pentru stabilitatea procesului. Suspensiile de cupru CMP folosesc de obicei silice coloidal ca abraziv primar, cu o dimensiune a particulelor controlată în general între 30 și 80 nm și sunt suplimentate cu aditivi chimici precum peroxid de hidrogen și benzotriazol (BTA) pentru a regla oxidarea și inhibarea coroziunii pe suprafața cuprului. Sarcina principală a filtrelor inoxidabile sinterizate în CMP de cupru este de a elimina particulele anormale de câteva ori mai mari decât dimensiunea normală a particulelor abrazive, mai degrabă decât să intercepteze toate particulele.
Dacă dimensiunea porilor filtrului este prea mică, acesta va prinde o cantitate mare de abraziv normal, modificând compoziția suspensiei și reducând eficiența de îndepărtare a materialului; dacă dimensiunea porilor este prea mare, nu poate elimina în mod eficient particulele aglomerate. Prin urmare, aplicațiile industriale folosesc în mod obișnuit structuri de filtrare în gradient, permițând suspensiei să elimine progresiv contaminanții de diferite dimensiuni la diferite etape de filtrare, menținând în același timp o concentrație relativ stabilă de particule nano-abrazive. O altă funcție crucială este controlul particulelor de metal abrazive. Pompele, supapele și conductele din sistemele de circulație CMP din cupru sunt supuse curgerii-de șlam abraziv pe termen lung, eliberând urme de resturi metalice. Aceste particule sunt de obicei mai dure decât suprafața de cupru și creează cu ușurință zgârieturi adânci în timpul lustruirii.Oțel inoxidabil sinterizat, cu structura sa poroasă tridimensională stabilă, poate prinde eficient aceste resturi metalice pe perioade îndelungate fără modificări ale dimensiunii porilor din cauza impactului abraziv cu viteză mare-.
Cerințe de filtrare în Tungsten CMP
Tungsten CMP este utilizat în principal pentru prelucrarea dopurilor de tungsten în dopuri de contact și interconexiuni plane. În comparație cu cuprul, wolframul este mai greu, iar procesul de îndepărtare se bazează în principal pe o combinație de oxidare chimică și măcinare mecanică. Prin urmare, în suspensie se adaugă în mod obișnuit oxidanți și abrazivi cu duritate mare-. Filtrele CMP din tungsten trebuie să reziste la niveluri semnificativ mai mari de abraziune. Deoarece puterea de tăiere abrazivă în suspensie este mai puternică, mediile filtrante polimerice obișnuite sunt predispuse la lărgirea porilor sau la uzura membranei după o funcționare pe termen lung-. Acest produs, totuși, are un schelet de metal sinterizat integral, capabil să reziste la curățarea continuă cu viteză mare-și să mențină precizia filtrării pe o perioadă lungă de timp. Tungsten CMP este foarte sensibil la impuritățile metalice.
Dacă filtrul în sine are reziduuri de sudură, zone insuficient pasivate sau precipitare de ioni metalici, acesta poate afecta reacția chimică de pe suprafața tungstenului. Prin urmare, elementele filtrante inoxidabile sinterizate high-de gamă largă folosesc de obicei pulbere de oțel inoxidabil 316L cu conținut scăzut de-sulf, care este supusă electrolușării și pasivării cu acid ultrapur pentru a forma o peliculă stabilă de oxid de crom-pe suprafața elementului de filtrare, reducând riscul de precipitare a fierului, nichelului și a altor elemente.
Rolul controlului particulelor în STI CMP (Shallow Trench Isolation CMP)
STI (Shallow Trench Isolation) CMP este utilizat în principal pentru a îndepărta materialul de oxid de siliciu după umplerea șanțurilor, realizând izolarea electrică între tranzistoare. Deoarece STI afectează direct formarea ulterioară a porții, cerințele sale de calitate a planarizării sunt extrem de ridicate. Suspensiile STI folosesc de obicei nano-oxid de ceriu (CeO₂) ca principal abraziv. Particulele sale au activitate chimică ridicată și pot reacționa sinergic cu suprafața silicei, îmbunătățind eficiența lustruirii. O caracteristică a suspensiilor de oxid de ceriu este aceea că particulele au o sarcină de suprafață puternică, făcându-le predispuse la aglomerare din cauza modificărilor pH-ului sau concentrației ionilor.
Dacă particulele aglomerate pătrund în zona de lustruire, ele nu numai că pot provoca zgârieturi, dar pot duce și la supra-înlăturarea zonelor de caneluri localizate, provocând abateri în structura dimensională a structurii de izolare. Acest filtru elimină continuu aglomeratele prin filtrare profundă. Simultan, datorită câmpului său uniform de curgere a porilor intern, reduce forfecarea locală a suspensiei în timpul filtrării, ajutând la menținerea dispersiei particulelor de oxid de ceriu. Acest lucru este mai important pentru STI CMP decât simpla îmbunătățire a preciziei de filtrare, deoarece menținerea dispersiei abrazive stabile îmbunătățește direct uniformitatea lustruirii.
FAQ
La ce presiune diferențială trebuie efectuată curățarea? Când trebuie înlocuit elementul filtrant NAVI Titanium?
+
-
Presiunea diferențială inițială pentru funcționarea normală a elementului de filtru NAVI Titanium este 0,02–0,06 MPa; când presiunea diferențială crește la 0,12–0,25 MPa, se recomandă oprirea sistemului și efectuarea curățării de regenerare. Dacă, după mai multe curățări, presiunea diferențială rămâne peste 0,35 MPa, debitul scade continuu sau apar scurgeri de precizie, elementul filtrant trebuie înlocuit.
Care este procedura standard de înlocuire a elementului filtrant NAVI Titanium?
+
-
Opriți sistemul și eliberați presiunea → goliți mediul → dezasamblați cartușul filtrului și curățați cavitatea → inspectați și înlocuiți inelele O-învechite/garniturile → instalați elementul filtrant conform direcției de curgere → strângeți uniform capacele de capăt în diagonală → creșteți încet presiunea la presiune scăzută și efectuați o funcționare de probă și confirmați că nu există scurgeri înainte de operarea oficială.
Durata de viață a elementului filtrant și standardele de eliminare?
+
-
În condiții de funcționare curate și întreținere corespunzătoare, poate fi regenerat de 25-35 de ori, cu o durată de viață de 3-5 ani. Dacă apar gropi de coroziune, deformare structurală, blocare permanentă a microporilor sau uzură a suprafeței de etanșare, înlocuirea este obligatorie.
Elementele filtrante NAVI Titanium din oțel inoxidabil sinterizat îndeplinesc standardele UE de mediu?
+
-
Toate sunt fabricate din material 316L fără acoperire chimică, nu conțin substanțe SVHC-care prezintă un grad ridicat de îngrijorare, respectă cerințele REACH și RoHS și nu eliberează ioni sau fibre metalice în timpul funcționării. Certificatele de conformitate pot fi furnizate pentru auditurile din fabrică.
Cum ar trebui să fie manipulate elementele filtrante NAVI Titanium aruncate?
+
-
Sunt materiale metalice reciclabile și nu sunt considerate deșeuri periculoase. Acestea pot fi colectate în mod uniform pentru topiri și reciclare, respectând reglementările UE privind economia circulară și facilitând clienților stabilirea evidențelor de funcționare și întreținere a mediului.
Tag-uri populare: oțel inoxidabil sinterizat, China, producători de oțel inoxidabil sinterizat, furnizori, fabrică, Tobă de eșapament din bronz sinterizat, Foaie de bronz sinterizat, Pulbere metalică sinterizată, Filtru de nichel sinterizat, Tub din oțel inoxidabil sinterizat, Filtru din oțel sinterizat
